載具清洗設備|FOUP/FOSB・Panel FOUP・子母框

提供半導體載具之清洗/去水/乾燥整合方案,支援 純水(DI Water)濕式清洗CDA 或 N2 去水吹乾,並可依設備規劃 SECS/GEM 與 MES 對接。產能與尺寸依來料潔淨度與配置而異,以正式報價與規格書為準。

核心品項

FOUP / FOSB Cleaner

面向晶圓與載板載具之自動化清洗與真空乾燥,提供產線潔淨度與交付節拍的平衡配置。

  • 參考產能:12–16 pcs/hr(依來料潔淨度)
  • 設備佔地:6m × 5.3m × 4m(含維修空間)
  • 清洗/乾燥:DI Water 濕洗 + CDA/N2 去水 + 熱風/真空烘乾

Panel FOUP Cleaner

面向 ABF/PCB/玻璃載板等大型載具清洗需求,適配面板型 FOUP 的清洗與乾燥節拍。

  • 參考產能:8 pcs/hr(依來料潔淨度)
  • 設備佔地:8.9m × 8.9m × 3m(含維修空間)
  • 去水介質:CDA 或 N2(依配置)

Frame Cleaner(子母框)

面向子框/母框(Frame)之精密清洗與乾燥,適合製程對微粒與殘水控制要求較高之場景。

  • 參考產能:12 pcs/hr(依來料潔淨度)
  • 設備佔地:9m × 7.6m × 3.1m(含維修空間)
  • 清洗方式:超音波(Ultrasonic)+ DI Water 清洗(依機型)

主要規格

規格項目 FOUP/FOSB Cleaner Panel FOUP Cleaner Frame Cleaner(子母框)
適用載具 晶圓/載板 FOUP、FOSB ABF/PCB/玻璃載板 FOUP ABF/PCB/玻璃載板 子框/母框
參考產能 12–16 pcs/hr 8 pcs/hr 12 pcs/hr
設備佔地(含維修空間) 6m × 5.3m × 4m 8.9m × 8.9m × 3m 9m × 7.6m × 3.1m
清洗介質 純水(DI Water)濕式清洗
去水/乾燥 CDA 或 N2 去水吹乾;並可搭配熱風與真空烘乾(依機型/配置)
自動化整合 可支援 SECS/GEM 與 MES 對接(依設備規劃)

模組與對接

系列設備採模組化規劃,可依產線需求配置:Load/Unload、自動取放、層距檢測、NG Port、Particle 檢測、暫存區等(依機型)。

  • SECS/GEM & MES:資訊串流與設備對接(依規劃)。
  • 清洗/乾燥路徑:DI Water 濕洗、CDA/N2 去水、熱風/真空烘乾(依配置)。
  • 備註:產能為參考值,實際依來料潔淨度與配置而異;驗收條件以報價與規格書為準。